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閔行區(qū)國產微納3D打印設備

發(fā)布時間:2025-04-04 03:26:28   來源:青島力拓機械有限公司   閱覽次數:7249次   

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產品系列的第二臺設備,,可實現(xiàn)在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,,微流體,,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),,非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。微納3D打印推薦納糯三維科技(上海)有限公司。閔行區(qū)國產微納3D打印設備

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為了進一步提升技術先進性,,科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面,利用SCRIBE新技術的情況下,,高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結構的光學性能的調節(jié)度,。另一方面,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域,。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,,例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,,成像中的熒光強度和折射率高度相關,,同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。閔行區(qū)國產微納3D打印設備Nanoscribe微納米3D打印全方面涉足中國市場,。

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義,。總而言之,,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性(如生命科學,、材料工程、微流體,、微納光學,、微機械和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)等)。

3D微納加工技術應用于材料工程領域,。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現(xiàn)具有特定光子,,機械,,生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,,由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景,。也就是說,,在納米級、微米級以及中尺度結構上,,可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。微納米3D打印系統(tǒng)基于新型的面投影微光刻技術原理設計而成,能實現(xiàn)多材料的微納尺度材料三維打印,。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復合物,,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),,并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,,也可以作為批量生產母版工具,。Nanoscribe的技術本質上是用一種微型激光來微納3D打印三維結構,。普陀區(qū)微納3D打印公司

德國Nanoscribe的光學微納3D打印可制造各種納米級鏡片,。閔行區(qū)國產微納3D打印設備

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,,您可以進行幾乎任何形狀,,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計,。另外,,Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作,。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,,包括仿生表面,,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等,。閔行區(qū)國產微納3D打印設備

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