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青島力拓機(jī)械有限公司

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江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe3D微納加工

發(fā)布時(shí)間:2024-12-23 11:16:35   來源:青島力拓機(jī)械有限公司   閱覽次數(shù):75335次   

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,,Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,,再生醫(yī)學(xué)工程,,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動(dòng),,并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰,,結(jié)構(gòu)分類上更明確,。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫,,公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示:“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,,我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,,更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用更多有關(guān)增材制造的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe3D微納加工

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QuantumXshape平臺(tái)系統(tǒng)共有四套打印套件,,為您提供不同規(guī)模制作可能性:從小特征尺寸(SF),中特征尺寸(MF)到大特征尺寸(LF)和如今的超大特征尺寸(XLF),。XLF打印套件所配備的全新5倍空氣物鏡以及4000μm寫場(chǎng)直徑,,為我們提供了更多新應(yīng)用可能性。完美實(shí)現(xiàn)在一步操作中打印>10mm高度的毫米或厘米級(jí)大小的零件,。由于18.5毫米的較大工作距離,因此對(duì)包裝密度沒有限制。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)50x50mm2的全定位打印面積,,一次打印至多30立方厘米的體積,,或在一個(gè)批次處理過程中在大面積上打印多個(gè)較小的對(duì)象。湖南2PPNanoscribe設(shè)備使用Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進(jìn)預(yù)制的二維微流道系統(tǒng),。

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借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長,、遷移和干細(xì)胞分化。此外,,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,,包括植入物,微針和微孔膜等制作,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性,科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面,,利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面,,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進(jìn)一步的可能,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同,。更多有關(guān)3D微納加工的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

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雙光子聚合(2PP)是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能:首先,,在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級(jí)打印,;其次制作高達(dá) 50 毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu),,適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,,同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。Quantum X shape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,,可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,,并以 1 MHz 調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率Nanoscribe致力于不斷推動(dòng)增材制造技術(shù)的發(fā)展,為客戶提供高質(zhì)量,、高效率的解決方案,。北京高精度Nanoscribe微納加工系統(tǒng)

想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別,請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司,。江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe3D微納加工

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe3D微納加工

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