【真空蒸鍍的歷史】：1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理，而后,、1930年代由于油擴散式真空泵實用化,、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時,，其他的光學機器對材料的需求提高,，真空蒸鍍也因此快速發(fā)展?！菊婵照翦兊脑怼浚涸谡婵諣顟B(tài)下,，加熱蒸發(fā)容器中的靶材，使其原子或分子逸出,，沉積在目標物體表面,，形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料,、基板的種類可分為:抵抗加熱,、電子束、高周波誘導,、雷射等加熱方式,。蒸鍍材料有鋁、亞鉛,、金,、銀、白金,、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學特性薄膜的材料,，主要有使用SiO2、TiO2,、ZrO2,、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,，樹脂與玻璃也可以使用,、近年來連紙也變成可蒸鍍?！菊舭l(fā)鍍膜的優(yōu)缺點】：優(yōu)點：設(shè)備簡單、容易操作,；成膜的速率快,，效率高。缺點：薄膜的厚度均勻性不易控制,，蒸發(fā)容器有污染的隱患,，工藝重復性不好，附著力不高,。真空鍍膜設(shè)備詳細鍍膜方法,。云南馳誠真空鍍膜設(shè)備

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】：真空泵：真空泵是指利用機械,、物理、化學或物理化學的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備,。通俗來講,，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置,。按真空泵的工作原理,，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵,。其廣fan用于冶金,、化工、食品,、電子鍍膜等行業(yè),。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空,，有油泵和干泵,。從結(jié)構(gòu)上可分幾種：旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr,，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵,，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM往復式活塞泵山東定制真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜機參數(shù)怎么調(diào),？

【真空鍍膜設(shè)備撿漏方法】:檢漏方法很多,，根據(jù)被檢件所處的狀態(tài)可分為充壓檢漏法、真空檢漏法及其它檢漏法,。充壓檢漏法：在被檢件內(nèi)部充入一定壓力的示漏物質(zhì),，如果被檢件上有漏孔，示漏物質(zhì)便從漏孔漏出,，用一定的方法或儀器在被檢件外部檢測出從漏孔漏出的示漏物質(zhì),，從而判定漏孔的存在、位置及漏率的大小,，此即充壓檢漏法,。真空檢漏法：被檢件和檢漏器的敏感元件處于真空狀態(tài)，在被檢件的外部施加示漏物質(zhì),，如果有漏孔,，示漏物質(zhì)就會通過漏孔進入被檢件和敏感元件的空間，由敏感元件檢測出示漏物質(zhì),，從而可以判定漏孔的存在,、位置利漏率的大小，這就是真空檢漏法,。其它檢漏法：被檢件既不充壓也不抽真空,，或其外部受壓等方法歸入其它檢漏法,。背壓法就是其中主要方法之一。所謂“背壓檢漏法”是利用背壓室先將示漏氣體由漏孔充入被檢件,，然后在真空狀態(tài)下使示漏氣體再從被檢件中漏出．以某種方法(或檢漏儀)檢測漏出的示漏氣體,，判定被檢件的總漏率的方法。

【離子鍍膜法之射頻離子鍍】： 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化,；依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體,、反應(yīng)氣體氧氣、氮氣,、乙炔等離化,。這種方法的特點是：基板溫升小，不純氣體少,，成膜好,，適合鍍化合物膜，但匹配較困難,?？蓱?yīng)用于鍍光學器件、半導體器件,、裝飾品,、汽車零件等。射頻離子鍍膜設(shè)備對周遭環(huán)境沒有不利影響,，符合現(xiàn)代綠色制造的工業(yè)發(fā)展方向,。目前，該類型設(shè)備已經(jīng)guang泛用在硬質(zhì)合金立銑刀,、可轉(zhuǎn)位銑刀,、焊接工具、階梯鉆,、鉆頭,、鉸刀、油孔鉆,、車刀,、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上,。 此外,，離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍，感應(yīng)離子加熱鍍,，集團離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。真空鍍膜設(shè)備主要用途,？

【真空鍍膜改善基片與膜的結(jié)合】： 1. 加強去油去污處理,，如是超聲波清洗,，重點考慮去油，若是手擦,，考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦,； 2. 加強鍍前烘烤； 3. 有條件時,，機組安裝冷凝及（POLYCOLD）,； 4. 提高真空度； 5. 有條件時,，機組安裝離子源,； 6. 膜料的去潮； 7. 保持工作環(huán)境的干燥,； 8. 對于多層膜,，在膜系設(shè)計時，就要考慮第yi層膜與基片的匹配,； 9. 采取研磨液復新去除鏡片表面的腐蝕層,； 10. 有時候適當降低蒸發(fā)速率對膜強度的提高有幫助，對提高膜表面光滑度有積極意義,。真空鍍膜設(shè)備怎么維修,。河南真空鍍膜設(shè)備組成

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1.厚度上的均勻性,，也可以理解為粗糙度,，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A）,，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好,，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說,，真空鍍膜沒有任何障礙,。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋,。2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,，SiTiO3薄膜,，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3,，而可能是其他的比例,，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出,。3.晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶,，多晶，非晶,，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題,。云南馳誠真空鍍膜設(shè)備