確定靶丸折射率及厚度的算法，由于干涉光譜信號與膜的光參量直接相關(guān),，這里主要考慮光譜分析的方法根據(jù)測量膜的反射或透射光譜進(jìn)行分析計(jì)算,，可獲得膜的厚度、折射率等參數(shù),。根據(jù)光譜信號分析計(jì)算膜折射率及厚度的方法主要有極值法和包絡(luò)法,、全光譜擬合法,。極值法測量膜厚度主要是根據(jù)薄膜反射或透射光譜曲線上的波峰的位置來計(jì)算，對于弱色散介質(zhì),，折射率為恒定值,，根據(jù)兩個(gè)或兩個(gè)以上的極大值點(diǎn)的位置,，求得膜的光學(xué)厚度,，若已知膜折射率即可求解膜的厚度；對于強(qiáng)色散介質(zhì),，首先利用極值點(diǎn)求出膜厚度的初始值,。薄膜厚度是一恒定不變值，可根據(jù)極大值點(diǎn)位置的光學(xué)厚度關(guān)系式獲得入射波長和折射率的對應(yīng)關(guān)系,，再依據(jù)薄膜材質(zhì)的色散特性,，引入合適的色散模型，常用的色散模型有cauchy模型,、Selimeier模型,、Lorenz模型等，利用折射率與入射波長的關(guān)系式,，通過二乘法擬合得到色散模型的系數(shù),，即可解得任意入射波長下的折射率。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對薄膜的表面和內(nèi)部進(jìn)行聯(lián)合測量和分析,。景德鎮(zhèn)膜厚儀答疑解惑

自1986年E.Wolf證明了相關(guān)誘導(dǎo)光譜的變化以來,，人們在理論和實(shí)驗(yàn)上展開了討論和研究。結(jié)果表明,，動(dòng)態(tài)的光譜位移可以產(chǎn)生新的濾波器,，應(yīng)用于光學(xué)信號處理和加密領(lǐng)域。在論文中,，我們提出的基于白光干涉光譜單峰值波長移動(dòng)的解調(diào)方案,，可以用于當(dāng)光程差非常小導(dǎo)致其干涉光譜只有一個(gè)干涉峰時(shí)的信號解調(diào)，實(shí)現(xiàn)納米薄膜厚度測量,。在頻域干涉中,，當(dāng)干涉光程差超過光源相干長度的時(shí)候，仍然可以觀察到干涉條紋,。出現(xiàn)這種現(xiàn)象的原因是白光光源的光譜可以看成是許多單色光的疊加,，每一列單色光的相干長度都是無限的。當(dāng)我們使用光譜儀來接收干涉光譜時(shí),，由于光譜儀光柵的分光作用,，將寬光譜的白光變成了窄帶光譜，從而使相干長度發(fā)生變化,。上海怎樣選擇膜厚儀白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于不同材料的薄膜的研究和制造中,。

在激光慣性約束核聚變實(shí)驗(yàn)中，靶丸的物性參數(shù)和幾何參數(shù)是靶丸制備工藝改進(jìn)和仿真模擬核聚變實(shí)驗(yàn)過程的基礎(chǔ)，因此如何對靶丸多個(gè)參數(shù)進(jìn)行同步,、高精度,、無損的綜合檢測是激光慣性約束核聚變實(shí)驗(yàn)中的關(guān)鍵問題。以上各種薄膜厚度及折射率的測量方法各有利弊,，但針對本文實(shí)驗(yàn),，仍然無法滿足激光核聚變技術(shù)對靶丸參數(shù)測量的高要求，靶丸參數(shù)測量存在以下問題：不能對靶丸進(jìn)行破壞性切割測量,，否則,，被破壞后的靶丸無法用于于下一步工藝處理或者打靶實(shí)驗(yàn)；需要同時(shí)測得靶丸的多個(gè)參數(shù),，不同參數(shù)的單獨(dú)測量,，無法提供靶丸制備和核聚變反應(yīng)過程中發(fā)生的結(jié)構(gòu)變化現(xiàn)象和規(guī)律，并且效率低下,、沒有統(tǒng)一的測量標(biāo)準(zhǔn),。靶丸屬于自支撐球形薄膜結(jié)構(gòu)，曲面應(yīng)力大,、難展平的特點(diǎn)導(dǎo)致靶丸與基底不能完全貼合,，在微區(qū)內(nèi)可看作類薄膜結(jié)構(gòu)

光纖白光干涉測量使用的是寬譜光源。光源的輸出光功率和中心波長的穩(wěn)定性是光源選取時(shí)需要重點(diǎn)考慮的參數(shù),。論文所設(shè)計(jì)的解調(diào)系統(tǒng)是通過檢測干涉峰值的中心波長的移動(dòng)實(shí)現(xiàn)的,，所以光源中心波長的穩(wěn)定性將對實(shí)驗(yàn)結(jié)果產(chǎn)生很大的影響。實(shí)驗(yàn)中我們所選用的光源是由INPHENIX公司生產(chǎn)的SLED光源,，相對于一般的寬帶光源具有輸出功率高,、覆蓋光譜范圍寬等特點(diǎn)。該光源采用+5V的直流供電,，標(biāo)定中心波長為1550nm,，且其輸出功率在一定范圍內(nèi)是可調(diào)的，驅(qū)動(dòng)電流可以達(dá)到600mA,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實(shí)現(xiàn)對薄膜的形貌變化的測量和分析,。

為限度提高靶丸內(nèi)爆壓縮效率，期望靶丸所有幾何參數(shù),、物性參數(shù)均為理想球?qū)ΨQ狀態(tài),。因此，需要對靶丸殼層厚度分布進(jìn)行精密的檢測,。靶丸殼層厚度常用的測量手法有X射線顯微輻照法,、激光差動(dòng)共焦法、白光干涉法等,。下面分別介紹了各個(gè)方法的特點(diǎn)與不足,，以及各種測量方法的應(yīng)用領(lǐng)域,。白光干涉法[30]是以白光作為光源，寬光譜的白光準(zhǔn)直后經(jīng)分光棱鏡分成兩束光,，一束光入射到參考鏡,。一束光入射到待測樣品。由計(jì)算機(jī)控制壓電陶瓷(PZT)沿Z軸方向進(jìn)行掃描,，當(dāng)兩路之間的光程差為零時(shí),，在分光棱鏡匯聚后再次被分成兩束，一束光通過光纖傳輸,，并由光譜儀收集,，另一束則被傳遞到CCD相機(jī),，用于樣品觀測,。利用光譜分析算法對干涉信號圖進(jìn)行分析得到薄膜的厚度。該方法能應(yīng)用靶丸殼層壁厚的測量,，但是該測量方法需要已知靶丸殼層材料的折射率,，同時(shí)，該方法也難以實(shí)現(xiàn)靶丸殼層厚度分布的測量,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉曲線的分析實(shí)現(xiàn)對薄膜的光學(xué)參數(shù)和厚度分布的聯(lián)合測量和分析,。順義區(qū)膜厚儀市場價(jià)格

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對薄膜的大范圍測量和分析。景德鎮(zhèn)膜厚儀答疑解惑

光譜法是以光的干涉效應(yīng)為基礎(chǔ)的一種薄膜厚度測量方法,，分為反射法和透射法兩類[12],。入射光在薄膜-基底-薄膜界面上的反射和透射會(huì)引起多光束干涉效應(yīng)，不同特性的薄膜材料的反射率和透過率曲線是不同的,，并且在全光譜范圍內(nèi)與厚度之間是一一對應(yīng)關(guān)系,。因此，根據(jù)這一光譜特性可以得到薄膜的厚度以及光學(xué)參數(shù),。光譜法的優(yōu)點(diǎn)是可以同時(shí)測量多個(gè)參數(shù)且可以有效的排除解的多值性,，測量范圍廣，是一種無損測量技術(shù),；缺點(diǎn)是對樣品薄膜表面條件的依賴性強(qiáng),，測量穩(wěn)定性較差，因而測量精度不高,；對于不同材料的薄膜需要使用不同波段的光源等,。目前，這種方法主要應(yīng)用于有機(jī)薄膜的厚度測量,。景德鎮(zhèn)膜厚儀答疑解惑