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青島力拓機(jī)械有限公司

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HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

發(fā)布時(shí)間:2024-12-23 16:06:48   來源:青島力拓機(jī)械有限公司   閱覽次數(shù):2次   

EVG620NT技術(shù)數(shù)據(jù):曝光源:汞光源/紫外線LED光源先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:手動(dòng)對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證自動(dòng)對準(zhǔn)動(dòng)態(tài)對準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對準(zhǔn)對準(zhǔn)偏移校正算法EVG620NT產(chǎn)量:全自動(dòng):弟一批生產(chǎn)量:每小時(shí)180片全自動(dòng):吞吐量對準(zhǔn):每小時(shí)140片晶圓晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)150毫米對準(zhǔn)方式:上側(cè)對準(zhǔn):≤±0.5μm底側(cè)對準(zhǔn):≤±1,0μm紅外校準(zhǔn):≤±2,0μm/具體取決于基材鍵對準(zhǔn):≤±2,0μmNIL對準(zhǔn):≤±3.0μm曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)軟件控制曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,,DE,,F(xiàn)R,IT,,JP,,KR實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,,彎曲,,翹曲,邊緣晶圓處理納米壓印光刻技術(shù):SmartNIL®光刻機(jī)利用光學(xué)原理將光線聚焦在光刻膠上,,通過光刻膠的曝光和顯影過程,,將芯片設(shè)計(jì)圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片,光刻機(jī)

掩模對準(zhǔn)系統(tǒng):EVG的發(fā)明,,例如1985年世界上較早的擁有底面對準(zhǔn)功能的系統(tǒng),開創(chuàng)了頂面和雙面光刻,,對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,,并設(shè)定了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品來增強(qiáng)這些核欣光刻技術(shù),,從而在這些領(lǐng)域做出了貢獻(xiàn),。EVG的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)可容納尺寸蕞大,尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板,,旨在為高級應(yīng)用提供先進(jìn)的自動(dòng)化程度和研發(fā)靈活性的復(fù)雜解決方案,。EVG的掩模對準(zhǔn)器和工藝能力已經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證,并已安裝在全球的生產(chǎn)設(shè)施中,,以支持眾多應(yīng)用,,包括高級封裝,化合物半導(dǎo)體,,功率器件,,LED,傳感器和MEMS制造,。江西光刻機(jī)HERCULES光刻機(jī)系統(tǒng):全自動(dòng)光刻根蹤系統(tǒng),,模塊化設(shè)計(jì),用于掩模和曝光,,集成了預(yù)處理和后處理能力,。

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EVG®150--光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng)

EVG®150是全自動(dòng)化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。EVG150設(shè)計(jì)為完全模塊化的平臺,可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能,。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性,。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray技術(shù)進(jìn)行均勻涂覆,而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制,。EVG®150特征:晶圓尺寸可達(dá)300毫米多達(dá)六個(gè)過程模塊可自定義的數(shù)量-多達(dá)二十個(gè)烘烤/冷卻/汽化堆多達(dá)四個(gè)FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換。此外,,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,,以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG620NT/EVG6200NT可從手動(dòng)到自動(dòng)基片處理,,實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場升級,。此外,所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù),。如果您需要納米壓印設(shè)備,,請?jiān)L問我們的官網(wǎng),或者直接聯(lián)系我們,。岱美是EVG光刻機(jī)在中國的代理商,,提供本地化的貼心服務(wù)。

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EVG光刻機(jī)簡介:EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個(gè)底部對準(zhǔn)系統(tǒng),,可以在頂部和雙面光刻,,對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),,以增強(qiáng)蕞重要的光刻技術(shù),。EVG的掩模對準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300mm的不同的尺寸,形狀和厚度的晶圓和基片,,同時(shí)為高級應(yīng)用提供高科技含量的有效解決方案,,并為研發(fā)提供充分的靈活可選性。EVG光刻機(jī)的掩模對準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證,,安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,,可在眾多應(yīng)用場景中找到,包括高級封裝,,化合物半導(dǎo)體,,功率器件,LED,,傳感器和MEMS,。IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,,支持200mm和300mm尺寸的晶圓。安徽光刻機(jī)美元價(jià)

EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

EVG120特征2:先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能,,可確保連續(xù)的高產(chǎn)量;工藝技術(shù)桌越和開發(fā)服務(wù):多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,,可分配的訪問權(quán)限,,不同的用戶界面語言)智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能設(shè)備和過程性能根蹤功能;并行/排隊(duì)任務(wù)處理功能,;智能處理功能,;發(fā)生和警報(bào)分析;智能維護(hù)管理和根蹤,;技術(shù)數(shù)據(jù):可用模塊,;旋涂/OmniSpray®/開發(fā);烤/冷,;晶圓處理選項(xiàng):單/雙EE/邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn),;彎曲/翹曲/薄晶圓處理。HERCULES光刻機(jī)用于生物芯片

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