采用峰峰值法處理光譜數(shù)據(jù)時(shí)，被測(cè)光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率,。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長(zhǎng)信息即可得出光程差,，不必關(guān)心此波長(zhǎng)處的光強(qiáng)大小，從而降低數(shù)據(jù)處理的難度,。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)來(lái)分別求出光程差,，然后再求平均值作為測(cè)量光程差，這樣可以提高該方法的測(cè)量精度,。但是,，峰峰值法存在著一些缺點(diǎn)：當(dāng)使用寬帶光源作為輸入光源時(shí)，接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光,，從而引起峰值處波長(zhǎng)的改變,，引入測(cè)量誤差。同時(shí),，當(dāng)兩干涉信號(hào)之間的光程差很小,，導(dǎo)致其干涉光譜只有一個(gè)干涉峰的時(shí)候，此法便不再適用。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的大范圍測(cè)量和分析,。常用膜厚儀供應(yīng)鏈
基于表面等離子體共振傳感的測(cè)量方案,，利用共振曲線的三個(gè)特征參量—共振角、半高寬和反射率小值,，通過(guò)反演計(jì)算得到待測(cè)金屬薄膜的厚度,。該測(cè)量方案可同時(shí)得到金屬薄膜的介電常數(shù)和厚度，操作方法簡(jiǎn)單,。我們利用Kretschmann型結(jié)構(gòu)的表面等離子體共振實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),，測(cè)得金膜在入射光波長(zhǎng)分別為632.8nm和652.1nm時(shí)的共振曲線，由此得到金膜的厚度為55.2nm,。由于該方案是一種強(qiáng)度測(cè)量方案,，測(cè)量精度受環(huán)境影響較大，且測(cè)量結(jié)果存在多值性的問(wèn)題,，所以我們進(jìn)一步對(duì)偏振外差干涉的改進(jìn)方案進(jìn)行了理論分析,，根據(jù)P光和S光之間相位差的變化實(shí)現(xiàn)厚度測(cè)量。沈陽(yáng)防水膜厚儀白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以應(yīng)用于電子顯示器中的薄膜厚度測(cè)量,。
薄膜作為重要元件,，通常使用金屬、合金,、化合物,、聚合物等作為其主要基材，品類(lèi)涵蓋光學(xué)膜,、電隔膜,、阻隔膜、保護(hù)膜,、裝飾膜等多種功能性薄膜,，廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代光學(xué)、電子,、醫(yī)療,、能源、建材等技術(shù)領(lǐng)域,。常用薄膜的厚度范圍從納米級(jí)到微米級(jí)不等,。納米和亞微米級(jí)薄膜主要是基于干涉效應(yīng)調(diào)制的光學(xué)薄膜，包括各種增透增反膜,、偏振膜,、干涉濾光片和分光膜等。部分薄膜經(jīng)特殊工藝處理后還具有耐高溫,、耐腐蝕、耐磨損等特性，對(duì)通訊,、顯示,、存儲(chǔ)等領(lǐng)域內(nèi)光學(xué)儀器的質(zhì)量起決定性作用[1-3]，如平面顯示器使用的ITO鍍膜,，太陽(yáng)能電池表面的SiO2減反射膜等,。微米級(jí)以上的薄膜以工農(nóng)業(yè)薄膜為主，多使用聚酯材料,，具有易改性,、可回收、適用范圍廣等特點(diǎn),。例如6微米厚度以下的電容器膜,，20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜,，25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車(chē)貼膜，以及厚度為25~65微米的防偽標(biāo)牌及拉線膠帶等。微米級(jí)薄膜利用其良好的延展,、密封、絕緣特性,，遍及食品包裝,、表面保護(hù)、磁帶基材,、感光儲(chǔ)能等應(yīng)用市場(chǎng),，加工速度快，市場(chǎng)占比高,。
利用包絡(luò)線法計(jì)算薄膜的光學(xué)常數(shù)和厚度,，但目前看來(lái)包絡(luò)法還存在很多不足，包絡(luò)線法需要產(chǎn)生干涉波動(dòng),，要求在測(cè)量波段內(nèi)存在多個(gè)干涉極值點(diǎn),，且干涉極值點(diǎn)足夠多，精度才高,。理想的包絡(luò)線是根據(jù)聯(lián)合透射曲線的切點(diǎn)建立的,，在沒(méi)有正確方法建立包絡(luò)線時(shí)，通常使用拋物線插值法建立,，這樣造成的誤差較大,。包絡(luò)法對(duì)測(cè)量對(duì)象要求高，如果薄膜較薄或厚度不足情況下,，會(huì)造成干涉條紋減少,，干涉波峰個(gè)數(shù)較少，要利用干涉極值點(diǎn)建立包絡(luò)線就越困難,，且利用拋物線插值法擬合也很困難,，從而降低該方法的準(zhǔn)確度,。其次，薄膜吸收的強(qiáng)弱也會(huì)影響該方法的準(zhǔn)確度,，對(duì)于吸收較強(qiáng)的薄膜,，隨干涉條紋減少，極大值與極小值包絡(luò)線逐漸匯聚成一條曲線,，該方法就不再適用,。因此，包絡(luò)法適用于膜層較厚且弱吸收的樣品,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以對(duì)薄膜的厚度和形貌進(jìn)行聯(lián)合測(cè)量和分析,。
光學(xué)測(cè)厚方法集光學(xué)、機(jī)械,、電子,、計(jì)算機(jī)圖像處理技術(shù)為一體，以其光波長(zhǎng)為測(cè)量基準(zhǔn),，從原理上保證了納米級(jí)的測(cè)量精度,。同時(shí)，光學(xué)測(cè)厚作為非接觸式的測(cè)量方法,，被廣泛應(yīng)用于精密元件表面形貌及厚度的無(wú)損測(cè)量,。其中，薄膜厚度光學(xué)測(cè)量方法按光吸收,、透反射,、偏振和干涉等光學(xué)原理可分為分光光度法、橢圓偏振法,、干涉法等多種測(cè)量方法,。不同的測(cè)量方法，其適用范圍各有側(cè)重,，褒貶不一,。因此結(jié)合多種測(cè)量方法的多通道式復(fù)合測(cè)量法也有研究，如橢圓偏振法和光度法結(jié)合的光譜橢偏法,，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結(jié)合法等,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的測(cè)量。沈陽(yáng)防水膜厚儀
白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以通過(guò)對(duì)干涉圖像的分析實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的形貌變化的測(cè)量和分析,。常用膜厚儀供應(yīng)鏈
白光干涉時(shí)域解調(diào)方案需要借助機(jī)械掃描部件帶動(dòng)干涉儀的反射鏡移動(dòng),，補(bǔ)償光程差，實(shí)現(xiàn)對(duì)信號(hào)的解調(diào)[44-45],。系統(tǒng)基本結(jié)構(gòu)如圖2-1所示,。光纖白光干涉儀的兩輸出臂分別作為參考臂和測(cè)量臂，作用是將待測(cè)的物理量轉(zhuǎn)換為干涉儀兩臂的光程差變化,。測(cè)量臂因待測(cè)物理量而增加了一個(gè)未知的光程,，參考臂則通過(guò)移動(dòng)反射鏡來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)測(cè)量臂引入的光程差的補(bǔ)償,。當(dāng)干涉儀兩臂光程差ΔL=0時(shí)，即兩干涉光束為等光程的時(shí)候,，出現(xiàn)干涉極大值,，可以觀察到中心零級(jí)干涉條紋，而這一現(xiàn)象與外界的干擾因素?zé)o關(guān),，因而可據(jù)此得到待測(cè)物理量的值。干擾輸出信號(hào)強(qiáng)度的因素包括：入射光功率,、光纖的傳輸損耗,、各端面的反射等。外界環(huán)境的擾動(dòng)會(huì)影響輸出信號(hào)的強(qiáng)度,，但是對(duì)零級(jí)干涉條紋的位置不會(huì)產(chǎn)生影響,。常用膜厚儀供應(yīng)鏈